แผ่น TPU ที่มีฟองทางกายภาพของเราได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมเพื่อตอบสนองความต้องการที่เข้มงวดของกระบวนการ Chemical Mechanical Planarization (CMP) ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ด้วยโครงสร้างเซลล์ที่ละเอียดและสม่ําเสมอและคุณสมบัติการบีบอัดที่ปรับแต่งได้แผ่นโฟมเหล่านี้จึงเหมาะอย่างยิ่งสําหรับใช้เป็นแผ่นรองหรือชั้นกันกระแทกใต้แผ่นขัดเงา
ฟีเจอร์หลัก:
-
การบีบอัดและความยืดหยุ่นที่ดีเยี่ยม
ให้การกระจายแรงดันที่สม่ําเสมอและการสัมผัสพื้นผิวที่สม่ําเสมอระหว่างการขัดเวเฟอร์
-
โครงสร้างเซลล์ละเอียด
·มั่นใจได้ถึงข้อบกพร่องของ พื้นผิว ต่ําและประสิทธิภาพการขัดเงาที่มั่นคง
-
ทนต่อสารเคมี
ทนต่อสารละลาย CMP และสารทําความสะอาด รักษาความทนทานในระยะยาว
-
ความเสถียรของมิติ
รักษาความเรียบและความสม่ําเสมอของความหนาภายใต้ความเครียดจากความร้อนและเชิงกล
-
ความแข็งและความหนาที่ปรับแต่งได้
ปรับแต่งให้ตรงกับความต้องการเฉพาะของอุปกรณ์และกระบวนการ
การใช้งานทั่วไป:
-
แผ่นย่อยสําหรับระบบขัดเวเฟอร์ CMP
-
ชั้นกันกระแทกสําหรับกระจก LCD หรือเลนส์ออปติคัลขัดเงา
-
ชั้นบัฟเฟอร์ในโครงสร้างแผ่น CMP หลายชั้น
มีจําหน่ายในความหนาแน่น ความหนา และระดับความแข็งต่างๆ แผ่นโฟม TPU ของเราให้ประสิทธิภาพที่สม่ําเสมอและมีความแม่นยําสูงสําหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง